ASML 的首席执行官 Christophe Fouquet 指出，人工智能热潮带来了远超预期的芯片需求，导致全球供应链在未来数年内都将处于供不应求的状态。他强调，ASML 的光刻机技术因其极高的复杂性和长期的研发投入，构成了难以逾越的壁垒，无论是初创公司还是地缘政治对手都难以在短期内复制。因此，他认为 ASML 的市场垄断地位非常稳固，而公司的策略是在商业利益与技术领先之间，通过向中国等市场出售老一代产品来寻求平衡。
AI 热潮与供应瓶颈
ASML 的 CEO Christophe Fouquet 坦言，没有人预见到人工智能会如此迅猛地爆发。这一变革已从一个遥远的概念转变为一场深刻的社会与工业革命。
当前，市场需求巨大，导致整个行业将在相当长一段时间内面临供应受限的局面。
“如果你与那些超大规模数据中心的公司交谈，他们会告诉你，在未来两、三甚至五年内，他们都无法获得足够的芯片。”
目前，最大的瓶颈似乎在于芯片制造环节。虽然 ASML 致力于提升产能以满足客户需求，但整个供应链的升级仍需时间。
最新设备的高昂成本与长期价值
对于台积电等客户抱怨其最新一代 高数值孔径（High-NA）EUV 光刻机 价格过高的问题，Fouquet 解释称：
- 初始成本更高： 一台新的高 NA 系统的价格确实比上一代（低 NA）系统昂贵。
- 长期成本更低： 使用新设备制造某些先进制程的晶圆时，成本可以降低 20% 到 30%。
- 历史相似性： Fouquet 指出，早在 2016-2017 年，人们也曾抱怨低 NA EUV 设备昂贵，但市场后来的发展证明了其价值。他相信高 NA 技术也会遵循同样的发展轨迹。
“我们为未来 10 到 20 年设计了高 NA 技术……同样的事情将会发生在高 NA 身上。”
竞争对手的挑战
Fouquet 对所谓的竞争威胁表现得相当从容，他认为将想法变为现实产品存在巨大鸿沟。
关于初创公司 Substrate： 他指出，光刻技术的挑战是多方面的。仅仅能制造出图像只是起点，关键在于能否以极高的产量、极低的成本、极快的速度和纳米级的精度来完成。ASML 之所以能成功，是因为其 EUV 设备 80% 的技术都基于数十年积累的知识和产品。
- ASML 仅解决“EUV 光源”这一个问题就花费了 20 年。
- Fouquet 强调：“我们在 30 年前就得到了第一张 EUV 图像，但之后仍需 20 年的艰苦努力才将其变为一个可用于生产的系统。”
关于激光初创公司 xLight： 这家公司专注于 EUV 设备中的一个组件——光源。Fouquet 表示 ASML 现有的光源技术仍可扩展多年，而 xLight 的技术仍需被制造和验证。ASML 正在与他们合作，但认为这仍是一段“非常漫长的旅程”。
关于中国的技术出口与管制
Fouquet 坚决否认了有关中国通过前员工逆向工程其技术的传言。
“要逆向工程任何东西，你首先需要拥有那台机器。而中国根本没有 EUV 机器——我们从未向那里运送过任何此类设备。”
他阐明了几个关键事实：
- 没有设备流出： ASML 追踪所有已售出的设备，没有任何 EUV 系统在中国。
- 没有技术培训： 由于 EUV 技术从未出口到中国，ASML 在中国也没有接受过相关培训的人员。
- 内部严格隔离： 公司内部早已建立了防火墙，将能够接触 EUV 技术、文件和培训的人员与其他人完全隔离开来。
在更广泛的出口管制问题上，Fouquet 赞同英伟达 CEO 黄仁勋的观点，即公司应该在全球范围内销售产品，但要保持技术代差。
- 他认为，通过向中国出售 2015 年首次推出的老一代设备，可以在商业利益与维持技术优势之间找到平衡。
- 这种做法既能避免完全放弃一个重要市场，也能防止将最先进的技术优势交给竞争对手。
他总结道，ASML 最好的保护就是技术本身的极端复杂性——这是集合了众多供应商、花费数十年时间、解决了无数难题才最终实现的成果。